كمكون لمادة مقاومة للضوء، بما في ذلك مولد حامض ضوئي أو خافض التوتر السطحي أو كمكون لطلاءات مضادات الانعكاسية لعمليات الليثوغرافية الضوئية لإنتاج أشباه موصلات أو مكونات مماثلة من الأجهزة الإلكترونية أو الأجهزة المنمنمة الأخرى؛ 光刻胶物质的组成成分，包括光酸产生剂（PAG）或表面活化剂；或者作为反射涂层的组成部分，用于生产半导体、电子或其他微型化装置中的相似部分的显微摄影平版印刷过程；
محاكي معالجة الطباعة الكيميائية هو أحد أجزاء مجموعة من " البرمجيات " التي تستعمل في طور التصميم لتحديد تعاقب خطوات الطباعة الكيميائية والحفر والترسيب لتحويل أنماط الحجب إلى أنماط طبوغرافية محددة في مواد الموصلات أو العوازل الكهربائية أو أشباه الموصلات. 光刻处理模拟器是一种在设计阶段用来定义将掩蔽图像转换成导体、电介质或半导体材料中的具体地形图像的光刻、蚀刻和淀积步骤序列的 " 软件 " 包。
محاكي معالجة الطباعة الكيميائية هو أحد أجزاء مجموعة من " البرمجيات " التي تستعمل في طور التصميم لتحديد تعاقب خطوات الطباعة الكيميائية والحفر والترسيب لتحويل أنماط الحجب إلى أنماط طبوغرافية محددة في مواد الموصلات أو العوازل الكهربائية أو أشباه الموصلات. 光刻处理模拟器是一种在设计阶段用来定义将掩蔽图像转换成导体、电介质或半导体材料中的具体地形图像的光刻、蚀刻和淀积步骤序列的 " 软件 " 包。